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Oblea de 2-5
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Retiro de fotoprotección:El método químico húmedo convencional elimina la fotoresistencia en la superficie de la oblea y tiene las desventajas que la reacción no puede ser controlada con precisión, la limpieza no es exhaustiva y las impurezas se introducen fácilmente. El tratamiento de plasma como un método seco tiene una alta capacidad de control y buena consistencia y no sólo completamente eliminar la fotoresistencia y otras sustancias orgánicas, pero también para activar y desbastar la superficie de la oblea y mejorar la humectabilidad de la superficie de la oblea.


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